SK하이닉스 핵심기술 中유출 협력사 부사장, 실형…법인은 벌금 10억

[서울=뉴시스] 장한지 기자 = SK하이닉스의 반도체 국가 핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의 등으로 재판에 넘겨진 협력사 법인과 부사장이 항소심에서 1심보다 무거운 형을 선고받았다.

서울고법 형사7부(부장판사 이재권)는 18일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법) 위반 혐의로 기소된 A사 신모(60) 부사장에게 징역 1년6개월을 선고했다.

양벌규정으로 기소된 A사에는 벌금 10억원을 선고했다. 양벌규정이란 법인의 대표자 등이 법 위반 행위를 했을 때 행위자를 벌하는 것 외에 법인에도 벌금형을 부과하는 것을 말한다.

또 A사 상무(연구소장)와 영업그룹장 등 고위직 임원 두 명은 1심에서 징역형 집행유예를 선고받았으나, 항소심에서 각 징역 1년6개월에 벌금 5000만원을 선고받았다.

나머지 직원 6명에게는 징역 1년 또는 징역형 집행유예, 무죄 등이 선고됐다.

재판부는 "SK하이닉스가 제공한 정보뿐 아니라 공동개발 과정에서 이뤄진 대량 파생기술을 제3자에게 은밀히 유출하는 경우 금지대상이거나 적어도 사전에 SK하이닉스의 사전 동의를 얻었어야 한다"고 지적했다.

이어 "A사가 SK하이닉스로부터 지득하거나 제공받은 정보 또는 공동개발 파생정보를 제공한 것은 산업기술보호법 위반과 부정경쟁방지법 위반 모두 성립한다"고 판단했다.

공범들에 대해서는 "세메스의 중요 산업기술 및 영업비밀을 취득한 범행은 여러 가지 면에서 심각한 위해를 초래할 수 있는 중대한 범죄"라며 "관련 사건으로 확정된 공범들과의 양형과 형평성 종합하면 원심의 양형이 너무 가벼워 부당하다"고 덧붙였다.

이들은 지난 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스와의 협업을 통해 알게 된 반도체 관련 국가 핵심기술 등을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의 등으로 재판에 넘겨졌다.

유출된 기술은 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술, 반도체 세정 레시피 정보 등인 것으로 파악됐다. 이는 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술이라고 한다.

또 삼성전자 계열사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받았다.

1심은 신 부사장에게 징역 1년을, A사에는 벌금 4억원을 선고했다. 나머지 직원들은 징역 8개월~1년에 집행유예 2년과 벌금형, 무죄 등이 선고됐다.

1심은 "국가 핵심 기술을 해외로 유출하는 범행은 상당히 무겁고 죄질이 좋지 않다"며 "공정한 경쟁 질서를 위협하는 행위"라고 지적했다.

다만 "개인정보보호의 감수성이나 위법성 인식이 상당히 약했던 것으로 보이고 일반 산업 스파이가 (기술을) 해외 유출하는 것과는 궤를 달리하는 부분을 감안했다"고 양형 이유를 전했다.


◎공감언론 뉴시스 [email protected]